IC Technology and Engineering
化学气相沉积因速率恒定、不消耗衬底且热预算低，是制备厚二氧化硅膜的首选，通过射频激发气体在低温下反应成膜，可精确控制薄膜形貌。
24-25MES302TC 集成电路技术与工程
IC Technology and Engineering
- 学校
- 西交利物浦大学
- 学院
- XJTLU Entrepreneur College
- 专业方向
- MESTC · Microelectronic Science and Engineering
- 完整开课代码
- MES302TC-2025/26-SEM2
- 开课学年
- 2025/26